俄歇电子能谱（AES或Auger）是一种表面敏感的分析技术，它利用高能电子束作为激发源。 被电子束激发的原子随后会松弛，从而导致“俄歇”电子的发射。 发射的俄歇电子的动能是样品顶部3-10 nm之内的元素的特征。

AES是我们的一部分智能图表系列。 另外，由于光点尺寸的范围，它提供了出色的表面灵敏度和小的光点尺寸。

此技术以法国物理学家Pierre Victor Auger在1923年的名字命名。但是，现在大多数人都认可了奥地利-瑞典物理学家Lise Meitner作为第一个发现从原子表面发射电子可以产生能量特征的人。

主要应用

由于电子束直径较小，AES 在投资粒子和小区域时非常有用，因为它能够研究小于 25 nm 的尺寸。 当薄膜太薄时，它也提供了一个很好的选择 EDS分析。AES 可以通过溅射将薄膜叠层采样到一微米或更深的深度。

最重要的是，AES 是一种半定量方法，这意味着我们通常根据设备制造商提供的标准灵敏度因素提供结果。 如果需要更准确的结果，可以通过查看已知成分并将它们与未知材料进行比较来获得。

可以在大小可变的区域上扫描电子束，也可以将其直接聚焦在感兴趣的特定表面特征上。 将电子束聚焦到10-20 nm直径的能力使得 俄歇电子能谱是一种非常有用的小表面特征元素分析工具。 还可以考虑的其他技术是 XPS 以及 TXRF。 当与溅射离子枪结合使用时，俄歇电子能谱还可以执行成分深度分析。

理想用途

• 缺陷分析
• 粒子分析
• 表面分析
• 小面积深度剖析
• 薄膜分析组合物
• 冶金分析

优势强项

• 首先，小面积分析（最小约20 nm）
• 其次，出色的表面灵敏度（3-10 nm的信息深度）
• 第三，良好的深度分辨率

缺点限制

• 最佳量化所需的标准
• 绝缘体可能很难
• 样品必须与真空兼容
• 检测灵敏度通常为0.1-1 at％

技术规格

• 检测到信号：来自近表面原子的俄歇电子
• 检测到元素：Li-U
• 检测限：0.1-1at％； 亚单层
• 深度分辨率：2-20 nm（在深度分析模式下）
• 成像/映射：是的
• 横向分辨率/探针尺寸：≥10 纳米

石油二站在处理常规和非常规俄歇分析请求方面拥有无与伦比的经验，多年来，一直使用俄歇电子光谱来解决各种工业分析应用。

石油二站广泛的俄歇电子光谱学专业知识具有直接的分析优势，无论我们是分析亚微米颗粒以确定晶圆加工设备中的污染源，还是分析电子设备中的缺陷以调查故障的根本原因。 最后，俄歇分析在冶金研究，包括在电镀抛光氧化层厚度的测定 医疗器械，石油二站不断利用其经验帮助解决许多行业领域客户的苛刻问题。

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